K&F Concept Nano-C HMC CPL apļveida polarizācijas filtrs 55 mm

K&F Concept Nano-C HMC CPL apļveida polarizācijas filtrs ir augstas kvalitātes optisks piederums, kas paredzēts fotogrāfiem, kuri vēlas uzlabot attēla kvalitāti, samazinot atspīdumu un atstarojumus. Ar 55 mm diametru un uzlabotu daudzslāņu pārklājumu šis filtrs uzlabo krāsu piesātinājumu un kontrastu, vienlaikus aizsargājot objektīvu.

Priekšrocības

Šis apļveida polarizācijas filtrs efektīvi novērš nevēlamus atstarojumus no nemetāliskām virsmām, piemēram, ūdens un stikla, padziļina zilās debesis un palielina kopējo krāsu dzīvīgumu. Nano-C HMC daudzslāņu pārklājums nodrošina vairāk nekā 99,6% gaismas caurlaidību, samazinot atspīdumus un spoku attēlus. Īpaši plānais rāmis (4,9 mm) novērš vinjetēšanu uz platleņķa objektīviem, un aviācijas alumīnija sakausējuma konstrukcija nodrošina izturību bez lieka svara.

Piemērots

• Ainavu fotografēšanai, lai uzlabotu debesis un lapotni
• Ūdens un stikla fotografēšanai, lai samazinātu atstarojumus
• Āra portretiem, lai uzlabotu ādas toņus un samazinātu atspīdumu
• Jebkurā situācijā, kur ir izdevīgi kontrolēt polarizētu gaismu

Galvenās specifikācijas

• Filtra tips: apļveida polarizators (CPL)
• Filtra diametrs: 55 mm
• Pārklājums: Nano-C HMC (28 slāņi, 14 katrā pusē)
• Stikla materiāls: Japānas AGC optiskais stikls
• Rāmja materiāls: aviācijas alumīnija sakausējums
• Rāmja biezums: 4,9 mm
• Gaismas caurlaidība: >99,6%
• Polarizācijas pakāpe: līdz 99,9%
• Ūdens atgrūdošs, eļļas izturīgs, skrāpējumiem izturīgs, pretatstarojošs, antistatisks
• Filtra faktors: 2-3 soļi
• Priekšējā vītne: jā (objektīva vāciņam vai sakraušanai)

Ieteikumi

Lai iegūtu vislabākos rezultātus, izmantojiet šo filtru kopā ar objektīva saules aizsargu, lai samazinātu sānu gaismu. Pirms montāžas pārliecinieties, ka filtrs ir tīrs; apkopei izmantojiet mikrošķiedras drāniņu. Saderīgs ar visiem 55 mm vītņotiem objektīviem.