K&F Concept Nano-C HMC UV filtrs 49 mm

K&F Concept Nano-C HMC UV filtrs ir augstas kvalitātes UV aizsardzības filtrs, kas paredzēts objektīviem ar 49 mm filtra vītni. Tas efektīvi samazina UV miglu, aizsargā priekšējo lēcas elementu no putekļiem, mitruma un skrāpējumiem, vienlaikus saglabājot izcilu attēla skaidrību. Uzlabotā Nano-C cietā daudzslāņu pārklājuma (HMC) tehnoloģija nodrošina vairāk nekā 99,6% gaismas caurlaidību, samazinot atspīdumus un atblāzmas.

Priekšrocības

Šis filtrs nodrošina izcilu aizsardzību, nezaudējot attēla kvalitāti. Īpaši plānais rāmis novērš vinjetēšanu pat platleņķa objektīviem, un dubultvītnes dizains ļauj sakraut papildu filtrus. Aviācijas alumīnija sakausējuma rāmis ir viegls, bet izturīgs, un Japānas AGC optiskais stikls nodrošina izcilu optisko veiktspēju. Filtrs ir ūdensizturīgs, eļļas izturīgs un skrāpējumizturīgs, padarot to ideāli piemērotu āra un ceļojumu fotografēšanai.

Piemērots

• Fotogrāfiem, kuri izmanto objektīvus ar 49 mm filtra vītni
• Ainavu un ceļojumu fotografēšanai, lai samazinātu UV miglu un aizsargātu objektīvu
• Ikdienas objektīva aizsardzībai pret putekļiem, mitrumu un skrāpējumiem

Galvenās specifikācijas

• Filtra tips: UV filtrs
• Filtra diametrs: 49 mm
• Pārklājums: Nano-C HMC (cietais daudzslāņu pārklājums), 18 slāņi (9 katrā pusē)
• Rāmja materiāls: Aviācijas alumīnija sakausējums
• Stikla materiāls: Japānas AGC optiskais stikls
• Gaismas caurlaidība: >99,6%
• Ūdensizturīgs, eļļas izturīgs, skrāpējumizturīgs, pretatstarojošs
• Dubultvītne sakraušanai

Ieteikumi

Lai nodrošinātu optimālu objektīva aizsardzību un attēla kvalitāti, apvienojiet šo UV filtru ar objektīva vāciņu un tīrīšanas drāniņu. Tas ir būtisks aksesuārs ikvienam fotogrāfam, kurš vēlas aizsargāt savu ieguldījumu.