K&F Concept Nano-C HMC UV filtrs 55 mm

K&F Concept Nano-C HMC UV filtrs ir augstas kvalitātes objektīva aksesuārs, kas paredzēts objektīva aizsardzībai, vienlaikus uzlabojot attēla skaidrību. Ar 28 slāņu cieto daudzpārklājumu tas sasniedz vairāk nekā 99,6% gaismas caurlaidību, samazinot atspīdumus un uzplaiksnījumus. Īpaši plānais aviācijas alumīnija sakausējuma rāmis (apm. 3,3 mm) novērš vinjetēšanu platleņķa objektīviem. Ūdensnecaurlaidīgs, eļļas necaurlaidīgs un skrāpējumiem izturīgs pārklājums uztur filtru tīru un izturīgu. Ideāli piemērots ainavu un āra fotografēšanai, tas bloķē UV gaismu, lai samazinātu miglu un uzlabotu kontrastu.

Priekšrocības

• Izcila gaismas caurlaidība (>99,6%) ar minimālu ietekmi uz ekspozīciju
• 28 slāņu Nano-C HMC pārklājums pretatspīdumam un izturībai
• Īpaši plāns rāmis (3,3 mm) vinjetēšanas novēršanai
• Ūdensnecaurlaidīgs, eļļas necaurlaidīgs un skrāpējumiem izturīgs vieglai apkopei
• Aizsargā objektīva priekšējo elementu no putekļiem, skrāpējumiem un triecieniem

Piemērots

• Objektīviem ar 55 mm filtra vītni
• Ainavu un āra fotografēšanai
• Dārgu objektīvu elementu aizsardzībai
• Miglas samazināšanai un kontrasta uzlabošanai spilgtos apstākļos

Galvenās specifikācijas

• Filtra tips: UV filtrs
• Filtra diametrs: 55 mm
• Pārklājums: Nano-C HMC (28 slāņi)
• Gaismas caurlaidība: >99,6%
• Stikls: Augstas izšķirtspējas optiskais stikls
• Rāmis: Aviācijas alumīnija sakausējums, īpaši plāns (3,3 mm)
• Ūdensnecaurlaidīgs, eļļas necaurlaidīgs, skrāpējumiem izturīgs
• Priekšējā vītne: Jā (savienošanai vai objektīva vāciņam)

Ieteikumi

Vienmēr turiet UV filtru uz objektīva aizsardzībai. Šis K&F Concept filtrs nodrošina izcilu optisko kvalitāti, neapdraudot attēla asumu. Savienojiet ar objektīva vāciņu papildu drošībai.