K&F Concept Nano-C HMC UV filtrs 58mm īpaši plāns objektīva aizsargs

Objektīva skrāpējumi, putekļi un UV migla var pasliktināt attēla kvalitāti un samazināt jūsu dārgā stikla kalpošanas laiku. Šis K&F Concept Nano-C HMC UV filtrs nodrošina caurspīdīgu vairogu, kas bloķē ultravioleto gaismu, vienlaikus aizsargājot objektīvu no fiziskiem bojājumiem.

Kam tas paredzēts

Fotogrāfiem, kuri fotografē ārā, bieži ceļo vai strādā sarežģītos apstākļos, kur priekšējais elements ir pakļauts putekļiem, mitrumam un nejaušai saskarei. Tas ir piemērots gan iesācējiem, gan profesionāļiem, kuri izmanto 58mm vītņotus objektīvus.

Galvenās īpašības

• Japāņu AGC optiskais stikls ar 28 slāņu Nano-C daudzpārklājumu (14 katrā pusē) nodrošina vairāk nekā 99,8% gaismas caurlaidību un samazina atspīdumus.
• Īpaši plāns 3,3mm aviācijas alumīnija rāmis novērš vinjetēšanu pat platleņķa objektīviem.
• Divkāršā vītne ļauj sakraut papildu filtrus vai piestiprināt objektīva vāciņu.
• Ūdens, eļļas un skrāpējumu izturīgi pārklājumi padara tīrīšanu vieglu un saglabā filtra caurspīdīgumu nelabvēlīgos laikapstākļos.
• Neitrāla krāsu atveide bez redzama krāsas nokrāsas, saglabājot precīzu baltā balansu.

Specifikācijas

• Filtra veids: UV aizsargfiltrs
• Diametrs: 58mm
• Pārklājums: Nano-C HMC daudzpārklājums, kopā 28 slāņi
• Optiskais materiāls: Japāņu AGC stikls
• Rāmja materiāls: Aviācijas alumīnija sakausējums
• Rāmja biezums: 3,3mm
• Gaismas caurlaidība: >99,8%
• Ūdens atgrūdošs: Jā
• Eļļas atgrūdošs: Jā
• Izturīgs pret skrāpējumiem: Jā
• Pretatstarojošs: Jā
• Vītne: Divkārša (priekšā un aizmugurē)
• Vinjetēšanas novēršana: Jā

Padomi

Turiet filtru vienmēr uzstādītu kā pirmo aizsardzības līniju. Tīrot, izmantojiet mikrošķiedras drāniņu un objektīva tīrīšanas šķīdumu; hidrofobais pārklājums palīdzēs ātri noņemt traipus. Platleņķa uzņēmumiem plānais profils nodrošina, ka nebūs tumšu stūru.