K&F Concept Nano-X MRC UV Filter Fujifilm X100/X100S/X100F/X100V/X100VI (KF01.2703)

K&F Concept Nano-X MRC UV filtrs ir augstas kvalitātes objektīva aizsargfiltrs, kas īpaši izstrādāts Fujifilm X100 sērijas kamerām (X100, X100S, X100F, X100V, X100VI). Tas aizstāj oriģinālo objektīva priekšējo gredzenu un nodrošina pielāgotu piegulšanu, neietekmējot kameras kompakto formu. Filtrs izmanto uzlabotu Nano-X daudzizturīgo pārklājumu (MRC) tehnoloģiju, piedāvājot izcilu aizsardzību pret putekļiem, skrāpējumiem, mitrumu un atmosfēras miglu, vienlaikus saglabājot izcilu optisko skaidrību.

Priekšrocības

Šis UV filtrs ne tikai aizsargā jūsu vērtīgo objektīvu, bet arī uzlabo attēla kvalitāti, samazinot miglu un palielinot kontrastu. 28 slāņu daudzpārklājums nodrošina >99.6% gaismas caurlaidību, samazinot atspīdumus un atblāzmas. Īpaši plānais kosmosa aviācijas alumīnija sakausējuma rāmis nepievieno lieku apjomu, saglabājot kameras gludo dizainu. Ūdens un eļļas atgrūšanas īpašības padara tīrīšanu vieglu, bet skrāpējumu izturība nodrošina ilgstošu izturību.

Piemērots

• Fujifilm X100
• Fujifilm X100S
• Fujifilm X100F
• Fujifilm X100V
• Fujifilm X100VI

Galvenās specifikācijas

• Filtra tips: UV filtrs
• Pārklājuma tehnoloģija: Nano-X daudzizturīgais pārklājums (MRC)
• Optiskais materiāls: Augstas izšķirtspējas optiskais stikls
• Rāmja materiāls: Kosmosa aviācijas alumīnija sakausējums
• Montāžas veids: Tieša pieskrūvēšana (aizstāj oriģinālo objektīva priekšējo gredzenu)
• Gaismas caurlaidība: >99.6%
• Ūdens un eļļas atgrūšana: Jā
• Skrāpējumu izturība: Jā
• Pretatspīdums: Jā
• UV absorbcija: Jā
• Rāmja profils: Īpaši plāns
• Pārklājumu skaits: 28 slāņi
• Krāsa: Melna

Ieteikumi

Lai nodrošinātu optimālu aizsardzību un attēla kvalitāti, vienmēr izmantojiet augstas kvalitātes UV filtru, piemēram, K&F Concept Nano-X MRC. Tas ir būtisks aksesuārs fotogrāfiem, kuri vēlas aizsargāt savu Fujifilm X100 sērijas objektīvu, nezaudējot veiktspēju.