K&F Concept Nano-X MRC UV filtrs Fujifilm X100 sērijai (melns rāmis)

K&F Concept Nano-X MRC UV filtrs ir augstākās klases objektīva aizsardzības risinājums, kas īpaši izstrādāts Fujifilm X100 sērijas kamerām, tostarp X100, X100S, X100V, X100F un X100VI. Šis pielāgotais filtrs aizstāj oriģinālo priekšējo gredzenu, nodrošinot nevainojamu integrāciju un nemainīgu attēla kvalitāti.

Priekšrocības

Šis UV filtrs piedāvā daudzizturīgu pārklājumu (MRC) izcilai aizsardzībai pret skrāpējumiem, ūdeni, eļļu un atspīdumiem. Ar vairāk nekā 99,6% gaismas caurlaidību tas nodrošina minimālu ietekmi uz attēla skaidrību, vienlaikus efektīvi samazinot UV gaismu un miglu. Īpaši plānais aviācijas alumīnija sakausējuma rāmis saglabā jūsu kameras kompakto profilu.

Piemērots

• Fujifilm X100
• Fujifilm X100S
• Fujifilm X100V
• Fujifilm X100F
• Fujifilm X100VI

Galvenās specifikācijas

• Filtra tips: UV filtrs
• Pārklājums: Nano-X daudzizturīgs pārklājums (MRC)
• Stikla materiāls: augstas izšķirtspējas optiskais stikls
• Rāmja materiāls: aviācijas alumīnija sakausējums
• Rāmja dizains: īpaši plāns
• Gaismas caurlaidība: >99,6%
• Ūdensizturība: Jā (hidrofobs)
• Eļļas izturība: Jā (oleofobs)
• Skrāpējumu izturība: Jā
• Pretatspīdums: Jā
• UV absorbcija: Jā
• Krāsa: melna (rāmis)

Ieteikumi

Lai nodrošinātu optimālu aizsardzību un attēla kvalitāti, izmantojiet šo filtru kā pastāvīgu objektīva aizsargu. Tā pielāgotā forma nodrošina, ka nav vinjetēšanas un uzstādīšana ir vienkārša.