K&F Concept Nano-X Ultra-Low Reflection Circular Polarizer Filter 49mm

K&F Concept Nano-X Ultra-Low Reflection cirkulārais polarizācijas (CPL) filtrs ir augstākās klases optisks aksesuārs, kas paredzēts fotogrāfiem, kuri vēlas novērst atspīdumus, uzlabot krāsu piesātinājumu un kontrastu. Ar 49 mm diametru šis filtrs ir piemērots objektīviem ar 49 mm filtra vītni, padarot to ideāli piemērotu plašam kameru un objektīvu klāstam.

Priekšrocības

Šis CPL filtrs efektīvi samazina atspīdumus no nemetāliskām virsmām, piemēram, ūdens, stikla un lapotnēm, ļaujot uzņemt skaidrākus, dzīvīgākus attēlus. Īpaši zemā atstarošanas spēja (<0,1%) samazina atspulgu un spoku efektu, nodrošinot augsta kontrasta rezultātus pat sarežģītos apgaismojuma apstākļos. 28 slāņu daudzkārtējais pārklājums nodrošina lielisku gaismas caurlaidību, vienlaikus aizsargājot objektīvu no skrāpējumiem, putekļiem un mitruma.

Piemērots

• Ainavu fotografēšanai, lai padziļinātu zilās debesis un samazinātu miglu
• Ūdens un dabas fotografēšanai, lai novērstu virsmas atspīdumus
• Arhitektūras un pilsētas ainavu fotografēšanai, lai uzlabotu krāsas un kontrastu
• Jebkurā situācijā, kur nepieciešams samazināt atspīdumus un uzlabot krāsu piesātinājumu

Galvenās specifikācijas

• Filtra tips: Cirkulārais polarizators (CPL)
• Filtra diametrs: 49 mm
• Sērija: Nano-X
• Pārklājumi: 28 slāņu daudzkārtējais pārklājums
• Atstarošanas spēja: Īpaši zema (<0,1%)
• Stikla materiāls: Japānas AGC optiskais stikls
• Rāmja materiāls: Aviācijas alumīnija sakausējums
• Rāmja tips: Īpaši plāns (3,3 mm biezums)
• Ūdens un tauku atgrūšana: Jā (nano pārklājums)
• Izturība pret skrāpējumiem: Jā (nano pārklājums)
• Gaismas samazinājums: 1-2 soļi (aptuveni)
• Vītne: Divpusēja (priekšā un aizmugurē)
• Optiskā tīrība: Augsta izšķirtspēja
• Krāsu precizitāte: Bez krāsu nobīdes

Ieteikumi

Lai iegūtu vislabākos rezultātus, izmantojiet šo filtru ar objektīviem, kuriem ir 49 mm filtra vītne. Īpaši plānais rāmis samazina vinjetēšanu platleņķa objektīviem. Uzglabājiet aizsargmaciņā, kad nelietojat, lai saglabātu nano pārklājuma integritāti.