K&F Concept UV NANO-X PRO MRC 58mm UV filtrs

K&F Concept UV NANO-X PRO MRC 58mm ir augstas kvalitātes UV filtrs, kas paredzēts objektīva aizsardzībai un attēla uzlabošanai. Izgatavots no Japānas AGC optiskā stikla ar 28 slāņu nano daudzizturīgu pārklājumu, tas nodrošina 99.6% gaismas caurlaidību, ūdens un eļļas izturību, kā arī skrāpējumu izturību. Īpaši plānais 3.3 mm aerokosmiskā alumīnija sakausējuma rāmis novērš vinjetēšanu, bet dubultā vītne ļauj pievienot papildu filtrus vai objektīva vāciņus. Šis filtrs bloķē UV gaismu līdz 390 nm, samazinot atmosfēras miglu un zilo nokrāsu, lai iegūtu skaidrākus un dabiskākus attēlus.

Priekšrocības

Nodrošina izcilu objektīva aizsardzību, nezaudējot attēla kvalitāti. Daudzizturīgais pārklājums garantē vieglu tīrīšanu un izturību, savukārt īpaši plānais dizains saglabā platleņķa saderību. Ideāli piemērots āra un ceļojumu fotografēšanai.

Piemērots

• Fotogrāfiem, kuri izmanto objektīvus ar 58 mm filtra vītni
• Ainavu un āra fotografēšanai, lai samazinātu miglu
• Dārgu objektīvu priekšējo elementu aizsardzībai no putekļiem, skrāpējumiem un mitruma

Galvenās specifikācijas

• Filtra tips: UV filtrs
• Filtra diametrs: 58 mm
• Optiskais materiāls: Japānas AGC optiskais stikls
• Pārklājumi: 28 slāņu nano daudzizturīgs pārklājums (MRC)
• Gaismas caurlaidība: 99.6%
• Rāmja materiāls: Aerokosmiskais alumīnija sakausējums
• Rāmja biezums: 3.3 mm
• Ūdens izturība: Jā
• Eļļas izturība: Jā
• Skrāpējumu izturība: Jā
• Pretatstarošana: Jā
• UV aizsardzība: Bloķē UV gaismu līdz 390 nm
• Vītnes tips: Dubultā vītne (priekšā un aizmugurē)

Ieteikumi

Lai iegūtu vislabākos rezultātus, lietojiet kopā ar objektīva vāciņu un tīrīšanas drāniņu. Piemērots gan profesionāliem, gan amatieru fotogrāfiem, kuri meklē uzticamu objektīva aizsardzību un uzlabotu attēla skaidrību.