K&F Concept Nano-X MRC UV Filter Ultra Low Reflection 55mm

K&F Concept Nano-X MRC UV filtrs ir augstas veiktspējas objektīva piederums, kas paredzēts objektīva aizsardzībai, vienlaikus uzlabojot attēla kvalitāti. Ar uzlaboto Nano-X daudzizturīgo pārklājumu (MRC) 28 slāņos tas nodrošina vairāk nekā 99,6% gaismas caurlaidību un mazāk nekā 0,3% atstarošanos, garantējot īpaši zemu atstarošanos un izcilu skaidrību. Filtrs ir izgatavots no Japānas AGC optiskā stikla un aviācijas alumīnija sakausējuma rāmja, nodrošinot izturību un plānu profilu 3,3 mm. Tas ir ūdensizturīgs, eļļas izturīgs, skrāpējumizturīgs un antistatisks, padarot to ideāli piemērotu āra un studijas fotografēšanai. Divkāršā vītņotā konstrukcija ļauj sakraut papildu filtrus vai objektīva vāciņus.

Priekšrocības

Īpaši zema atstarošanās samazina atspīdumu un uzliesmojumus, uzlabojot kontrastu un krāsu precizitāti. Daudzizturīgais pārklājums aizsargā pret ūdeni, eļļu, skrāpējumiem un statisko elektrību, nodrošinot vieglu tīrīšanu un ilgstošu veiktspēju. Īpaši plānais rāmis novērš vinjetēšanu uz platleņķa objektīviem.

Piemērots

• Fotogrāfiem, kuri meklē objektīva aizsardzību, nezaudējot attēla kvalitāti
• Āra un ainavu fotografēšanai, lai samazinātu atmosfēras miglu
• Studijas darbam, kam nepieciešama augsta gaismas caurlaidība un minimāla atstarošanās

Galvenās specifikācijas

• Filtra tips: UV filtrs
• Filtra diametrs: 55 mm
• Pārklājums: Nano-X daudzizturīgais pārklājums (MRC), 28 slāņi abpusēji
• Gaismas caurlaidība: >99,6%
• Atstarošanās koeficients: <0,3%
• Stikla materiāls: Japānas AGC optiskais stikls
• Rāmja materiāls: Aviācijas alumīnija sakausējums
• Rāmja biezums: 3,3 mm
• Vītnes tips: Divkāršā vītne (priekšā un aizmugurē)
• Izturīgs pret ūdeni, eļļu, skrāpējumiem un statisko elektrību

Ieteikumi

Lai iegūtu optimālu veiktspēju, savienojiet šo UV filtru ar objektīva pārsegu, lai samazinātu izkliedēto gaismu. Tīriet ar mikrošķiedras drānu, lai saglabātu pārklājuma integritāti. Ideāli piemērots gan amatieru, gan profesionāliem fotogrāfiem.