K&F Concept Nano-X MRC UV Filter Ultra Low Reflection 58mm

K&F Concept Nano-X MRC UV filtrs ir augstas kvalitātes aizsargfiltrs, kas paredzēts objektīva aizsardzībai, vienlaikus uzlabojot attēla skaidrību. Ar īpaši zemu atstarošanos un uzlaboto Nano-X daudzslāņu pārklājumu šis filtrs nodrošina izcilu gaismas caurlaidību un minimālu atspīdumu. Ideāli piemērots fotogrāfiem, kuri meklē uzticamu objektīva aizsardzību, nezaudējot attēla kvalitāti.

Priekšrocības

Šis filtrs nodrošina izcilu aizsardzību pret putekļiem, mitrumu, skrāpējumiem un triecieniem. Tā 28 slāņu abpusējais pārklājums samazina atstarošanos līdz zem 0.3%, nodrošinot asus un kontrastainus attēlus. Īpaši plānais 3.3 mm rāmis novērš vinjetēšanu pat platleņķa objektīviem, savukārt ūdens un eļļas atgrūšanas īpašības padara tīrīšanu vieglu.

Piemērots

• Fotogrāfiem, kuri izmanto objektīvus ar 58 mm filtra vītni
• Āra un ceļojumu fotogrāfijai, kur nepieciešama objektīva aizsardzība
• Studijas un ainavu fotogrāfijai, kur nepieciešama minimāla atstarošanās

Galvenās specifikācijas

• Filtra tips: UV aizsargfiltrs
• Filtra diametrs: 58 mm
• Pārklājuma tehnoloģija: Nano-X daudzslāņu pārklājums (MRC)
• Pārklājuma slāņu skaits: 28 slāņi (abpusēji)
• Gaismas caurlaidība: >99.6%
• Atstarošanās koeficients: <0.3%
• Rāmja materiāls: Aviācijas alumīnija sakausējums
• Stikla materiāls: Japānas AGC optiskais stikls
• Rāmja biezums: 3.3 mm (īpaši plāns)
• Ūdens atgrūšana: Jā
• Eļļas atgrūšana: Jā
• Izturīgs pret skrāpējumiem: Jā
• Antistatisks: Jā
• Pretatspīduma: Jā
• UV absorbcija: Jā
• Vītnes tips: Divpusēja vītne (priekšā un aizmugurē)
• Saderība: Objektīvi ar 58 mm filtra vītni
• Sērija: Nano-X

Ieteikumi

Lai nodrošinātu optimālu veiktspēju, izmantojiet šo filtru kopā ar objektīva vāciņu un tīrīšanas drāniņu. Ieteicams izmantot filtru kā pastāvīgu aizsargkārtu uz objektīva. Pārliecinieties, ka filtrs ir droši piestiprināts, lai izvairītos no nejaušas atskrūvēšanās.