K&F Concept Nano-X MRC UV filtrs 55mm

K&F Concept Nano-X MRC UV filtrs ir augstākās kvalitātes ultravioletās aizsardzības filtrs, kas paredzēts fotogrāfiem, kuri pieprasa visaugstāko optisko skaidrību un objektīva aizsardzību. Izgatavots no Japānas AGC optiskā stikla un uzlabota Nano-X daudzizturīgā pārklājuma, šis 55mm filtrs samazina miglu, uzlabo kontrastu un aizsargā objektīvu no putekļiem, mitruma, skrāpējumiem un UV gaismas, neietekmējot krāsu līdzsvaru.

Priekšrocības

Šis filtrs nodrošina izcilu gaismas caurlaidību (>99,6%) un 28 nano pārklājuma slāņus, kas nodrošina hidrofobas, oleofobas, pretatstarojošas, antistatiskas un pret skrāpējumiem izturīgas īpašības. Īpaši plānais 3,3 mm aerokosmiskās klases alumīnija sakausējuma rāmis novērš vinjetēšanu uz platleņķa objektīviem, savukārt dubultvītņotais dizains ļauj sakraut papildu filtrus vai objektīva vāciņus.

Piemērots

• Fotogrāfiem, kuri izmanto objektīvus ar 55mm filtra vītni
• Āra un ceļojumu fotogrāfijai, kas prasa objektīva aizsardzību no UV stariem un elementiem
• Profesionāļiem, kuri meklē augstas caurspīdības filtru ar minimālu optisko degradāciju

Galvenās specifikācijas

• Filtra tips: UV (ultravioletais)
• Filtra diametrs: 55mm
• Pārklājuma tehnoloģija: Nano-X daudzizturīgais pārklājums (MRC)
• Pārklājuma slāņu skaits: 28 slāņi
• Optiskais materiāls: Japānas AGC optiskais stikls
• Rāmja materiāls: Aerokosmiskās klases alumīnija sakausējums
• Rāmja profils: Īpaši plāns (3,3mm)
• Gaismas caurlaidība: >99,6%
• UV gaismas samazināšana: Jā
• Ūdens izturība: Jā (hidrofobs)
• Eļļas izturība: Jā (oleofobs)
• Izturība pret skrāpējumiem: Jā
• Pretatstarojošs: Jā
• Antistatisks: Jā
• Vītnes tips: Dubultvītņots (priekšā un aizmugurē)
• Optiskais efekts: Samazina miglu, uzlabo skaidrību, aizsargā objektīvu
• Krāsu nobīde: Nav
• Saderība: Objektīvi ar 55mm filtra vītni
• Sērija: K&F Concept Nano-X

Ieteikumi

Lai nodrošinātu optimālu veiktspēju, notīriet filtru ar mikrošķiedras drāniņu. Šis filtrs ir lieliska izvēle gan amatieru, gan profesionālu fotogrāfu vidū, kuri vēlas aizsargāt savu ieguldījumu, vienlaikus saglabājot attēla kvalitāti.